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爐管為半導體產業常使用的製程設備,其良率為重要之技術指標,因此本研究針對垂直式爐管進行流場數值模擬,評估氣體噴注器的流量對於製程良率所產生的影響,藉由晶圓薄膜厚度之實測比對,找出氣體噴注器的出口流量…